產(chǎn)品介紹：
大型水滴角測(cè)試儀眾所周知，納米材料科學(xué)與工程已經(jīng)成為世界性的研究熱點(diǎn)，在研究納米材料的表面改性時(shí)，往往要涉及潤(rùn)濕接觸角這個(gè)概念。所謂接觸角是指在一固體水平平面上滴一液滴，固體表面上的固－液－氣三相交界點(diǎn)處，其氣－液界面和固－液界面兩切線把液相夾在其中時(shí)所成的角。
應(yīng)用方向：
新表面表征、表面純度測(cè)試、固體表面處理評(píng)價(jià)、液體配方設(shè)計(jì)、表面清潔度分析、等離子清洗效果分析、固液體之間或固體黏駙特性研究、表面印刷性能的表征、玻璃（包括塑料或金屬等固體）表面潤(rùn)濕性研究、分析表面改性等
儀器應(yīng)用領(lǐng)域 ：
可用于如下領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究，應(yīng)用新方法，產(chǎn)品設(shè)計(jì)以及品質(zhì)控制等。
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TFT-LCD面板行業(yè)：玻璃面板潔凈度與鍍膜質(zhì)量測(cè)量；TFT打印電路、彩色濾光片、 ITO導(dǎo)體膠卷等前涂層質(zhì)量測(cè)量；半導(dǎo)體，平面顯示器、光學(xué)行業(yè)掩膜親水性測(cè)量
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印刷、塑膠行業(yè)：表面清潔與附著質(zhì)量測(cè)量；油墨附著度測(cè)量；催化劑測(cè)量；膠水膠體性質(zhì)相容性測(cè)量；染料的緊扣度
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半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)：晶圓的潔凈度測(cè)量；HMDS的處理控制；CMP的研究測(cè)量、光阻與顯影劑的研究
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化學(xué)材料研究：防水與親水性能材料研究探討；表面活性與清潔劑的張力、濕性；黏性增強(qiáng)與附著表面能測(cè)量
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IC封裝：基質(zhì)表面潔凈度；原子合成氧化識(shí)別；BGA焊接表面；環(huán)氧化物的附著度測(cè)量
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紙張、紙尿褲、衛(wèi)生護(hù)墊等材料的吸水性以及可印刷性等性質(zhì)分析；
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纖維、織物、碳纖維、玻璃纖維與樹(shù)脂的新功能開(kāi)發(fā)、表面性質(zhì)、印染等性質(zhì)分析；
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液晶屏、硬盤、屏幕保護(hù)膜、觸摸屏、LCD、LED、光學(xué)零件、半導(dǎo)體芯片、Wafer、微電子等行業(yè)表面清潔度分析以及品質(zhì)控制、新材料開(kāi)發(fā)研究以及等離子（Plasma）處理等表面處理效果評(píng)估；
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聚合物、高分子材料及金屬材料表面修飾、表面改性、印刷性質(zhì)等分析；
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薄膜、偏光片、膠片、感光材料的新材料開(kāi)發(fā)、印刷性等分析；
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生物材料、仿生材料的研發(fā)及其應(yīng)用分析，如檢測(cè)和表征蛋白質(zhì)、肺表面活性劑、表征生物相容性材料（高分子材料）的潤(rùn)濕和粘附性、競(jìng)爭(zhēng)以及粘附的蛋白質(zhì)。
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食品工業(yè)、醫(yī)藥：如人造骨、隱形眼鏡、眼鏡玻璃的潤(rùn)濕、吸附性質(zhì)分析；
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超疏水和超親水材料的研究、可潤(rùn)濕性分析；
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空調(diào)親水鋁箔、絕緣子、巖芯、煤礦、瀝青的潤(rùn)濕性分析以及新材料的研發(fā)；
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電潤(rùn)濕接觸角轉(zhuǎn)化、電透鏡研究等；
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表面活性劑應(yīng)用研究，如化妝品、清潔劑、乳液、石油行業(yè)（三次采油）等；
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噴霧、農(nóng)藥、油漆、墨水、油墨和涂料行業(yè)配方設(shè)計(jì)及潤(rùn)濕性分析；
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大學(xué)實(shí)驗(yàn)室研發(fā)、課題、研究等；
符合國(guó)家的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn):
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GB/T 24368-2009(玻璃表面疏水污染物檢測(cè))
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SY/T5153-2007（油藏巖石潤(rùn)濕性測(cè)定方法）
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ASTM D 724-99（2003）（紙的表面可濕性的試驗(yàn)方法）
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ASTM D5946-2004（塑料薄膜與水接觸角度的測(cè)量）
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ISO15989（塑料薄膜和薄板電暈處理薄膜的水接觸角度的測(cè)量）
技術(shù)參數(shù)：
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機(jī)臺(tái)型號(hào)
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ST-200D
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接觸角測(cè)量范圍
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0-180
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接觸角測(cè)量精度
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±0.1
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滴液方式
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自動(dòng)滴液
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滴液馬達(dá)
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日本精密步進(jìn)馬達(dá) 精度達(dá)0.01微升
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接觸角測(cè)試方法
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座滴法，懸滴法
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接觸角分析方法
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全自動(dòng)圓環(huán)擬合法，手動(dòng)斜面測(cè)量法，手動(dòng)橢圓擬合，曲面測(cè)量法，寬高測(cè)量法，人工切線法，動(dòng)態(tài)測(cè)量法
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接觸角圖像處理方式
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手動(dòng)處理、自動(dòng)處理
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表面能測(cè)定
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Fowks法，OWRK法，ZismanPlot法，EOS法
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軟件功能
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數(shù)碼CMOS攝像機(jī)
錄像/回播 瞬間截圖、按設(shè)定時(shí)間間隔截圖 錄
像任意電影單張導(dǎo)出
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工作臺(tái)面尺寸
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400mm×500mm（可定制）
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滴液移動(dòng)
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前后100mm
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試樣尺寸
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370mm（寬）* 470mm（長(zhǎng)）
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進(jìn)樣器移動(dòng)
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根據(jù)臺(tái)面定制
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光學(xué)系統(tǒng)
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鏡頭0.7-4.5X連續(xù)變倍
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儀器外形尺寸
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約800mm（寬）×1300mm（長(zhǎng)）×1620mm（高）
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